GIIが「リソグラフィー材料の世界市場 2024～2025年」の取り扱いを開始。リソグラフィー材料の上向き成長へ。発行元TECHCETはPFAS廃止への取り組みが代替フォトレジストへの移行を促進すると予想
株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口 荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「リソグラフィー材料の世界市場（重要材料）：2024～2025年 (Critical Materials Report)」（TECHCET）の販売を開始しました。
ビジネスと技術情報を提供する電子材料アドバイザリー会社TECHCET（米カリフォルニア州サンディエゴ）は、2024年の半導体フォトレジスト売上が11％近く増加すると予測しています。2024年は半導体市場全体の回復が見込まれ、特に後半はレジスト全般の需要増が見込まれます。これと並行して、フォトレジスト補助材料は約10％、エクステンションは約9％の増加が見込まれます。材料別フォトレジストの数量と売上高予測の詳細は、同社発行の市場調査レポート「リソグラフィー材料の世界市場（重要材料）：2024～2025年 (Critical Materials Report)」に掲載されています。
【当レポートの詳細目次】
https://www.gii.co.jp/report/tcl1498836-lithography-materials-market-report-critical.html
TECHCETのチーフ・テクノロジー・ストラテジストであるカリー・ホランド博士は述べています。
「リソグラフィー材料は、レガシー用途（I-Line、G-Line、248nm
「先端リソグラフィー（193nm
EUと米国における最近のPFAS関連化学物質の排除の動きは、将来のフォトレジスト材料化合物に徐々に影響を与えると予想されます。光酸発生剤（PAG）化合物を使用したフォトレジストは、長年にわたり認定・使用されてきたため、代替品への切り替えは困難です。そのため多くの企業や大学が非PFAS関連PAGの開発に取り組んでいますが、現在の性能はまだすべてのプロセス要件を満たしていません。その結果、適切な非PFAS PAG代替品を定義し、効果的に移行するには5～10年かかると予想されます。
新しく公開された市場調査レポート「リソグラフィー材料の世界市場（重要材料）：2024～2025年 (Critical Materials Report)」には、市場および技術動向の詳細とサプライヤーのプロフィールが掲載されています。
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