EUVレチクル用ペリクルの世界市場（2026年～2032年）、市場規模（透過率90%以上、透過率90%以下）・分析レポートを発表

株式会社マーケットリサーチセンター（本社：東京都港区、世界の市場調査資料販売）では、「EUVレチクル用ペリクルの世界市場（2026年～2032年）、英文タイトル：Global Pellicles for EUV Reticles Market 2026-2032」調査資料を発表しました。資料には、EUVレチクル用ペリクルの世界市場規模、市場動向、セグメント別予測（透過率90%以上、透過率90%以下）、関連企業の情報などが盛り込まれています。

■ 主な掲載内容

世界のEUVレチクル用ペリクル市場規模は、2025年の1億200万米ドルから2032年には1億8400万米ドルに成長すると予測されており、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）8.9%で成長すると見込まれています。

EUVレチクル用ペリクルは、フォトマスクを汚染から保護しつつ、極端紫外線（EUV）リソグラフィの高い透過率を確保するために使用される膜です。半導体製造に使用されるリソグラフィプロセスにおいて重要な役割を果たします。

当初、ペリクルはポリシリコンをコア層とする単層構造でした。2021年以降、EUVペリクルは複合材料を採用するようになりました。現在では、モリブデン二ケイ化物（MoSi₂）とシリコン（Si）の層を交互に積層した多層構造が主要構成要素となっています。EUV透過率（EUVT）は、EUVペリクルの重要な性能指標です。単層構造から多層構造への移行により、EUVTは約82%から約90%に向上しました。次世代のフィルム技術は、構造変化（単層から多層へ）にとどまらず、材料の進歩を取り入れることで、CNTペリクルの登場へと繋がるでしょう。

人工知能（AI）とコンピューティング技術の進歩に牽引され、半導体業界における先端チップの需要は拡大を続けており、特にEUV技術を用いた7nm以下のチップの成長が著しいです。7nm以下の先端プロセスでは、マスク上のパターンサイズはわずか数十ナノメートルとなる場合があり、ペリクルの均一性と欠陥制御に極めて厳しい要求が課せられます。次世代の高出力EUVリソグラフィ装置は500W以上で動作し、チップ製造中にフォトマスクを粒子汚染から保護するためにEUVフィルムが必要となります。

近年、先端チップ製造において極端紫外線（EUV）プロセスを採用するチップメーカーが急速に増加しています。こうした需要の高まりに応えるため、多くの企業がEUVプロセス向け保護フィルムの開発に取り組んでいます。

ASMLは2019年に初のEUVペリクルを発売し、その技術を三井化学にライセンス供与しました。三井化学は2021年に量産を開始しました。その後、ASMLはペリクルの改良を重ねています。三井化学の次世代CNTペリクル生産設備は2025年末までに完成予定と報じられています。

2021年には、韓国のS&S Tech社が透過率90%以上のペリクルを開発しました。FST社のEUVペリクルは現在も開発段階にあります。

Canatu社は2015年からImecと協力し、寿命、透過率、耐熱性、透過性、強度といった性能目標を達成するCNTペリクルの開発に取り組んでいます。

この最新調査レポート「EUVレチクル用ペリクル業界予測」は、過去の販売実績を分析し、2025年の世界全体のEUVレチクル用ペリクル販売額を概観するとともに、2026年から2032年までの地域別および市場セクター別のEUVレチクル用ペリクル販売予測を包括的に分析しています。地域別、市場セクター別、サブセクター別にEUVレチクル用ペリクル販売額を細分化したこのレポートは、世界のEUVレチクル用ペリクル業界を百万米ドル単位で詳細に分析しています。

このインサイトレポートは、世界のEUVレチクル用ペリクル市場の状況を包括的に分析し、製品セグメンテーション、企業設立、収益、市場シェア、最新の開発動向、M&A活動など、主要なトレンドを明らかにしています。本レポートでは、EUVレチクル用ペリクルのポートフォリオと機能、市場参入戦略、市場における地位、地理的展開に焦点を当て、世界有数の企業の戦略を分析し、急成長するEUVレチクル用ペリクル市場における各社の独自の立ち位置をより深く理解することを目的としています。

本インサイトレポートは、EUVレチクル用ペリクルの世界的な展望を形成する主要な市場動向、推進要因、影響要因を評価し、タイプ別、用途別、地域別、市場規模別に予測を細分化することで、新たなビジネスチャンスを明らかにします。数百ものボトムアップ型の定性的・定量的市場インプットに基づく透明性の高い手法により、本調査予測は、世界のEUVレチクル用ペリクル市場の現状と将来の軌跡について、非常に詳細な見解を提供します。

本レポートは、EUVレチクル用ペリクル市場の包括的な概要、市場シェア、成長機会を、製品タイプ別、用途別、主要メーカー別、主要地域・国別に提示します。

タイプ別セグメンテーション：

透過率90%以上

透過率90%以下

用途別セグメンテーション：

IDM

ファウンドリ

本レポートでは、市場を地域別にも分類しています。

南北アメリカ

米国

カナダ
メキシコ
ブラジル
アジア太平洋地域
中国
日本
韓国
東南アジア
インド
オーストラリア
ヨーロッパ
ドイツ
フランス
英国
イタリア
ロシア
中東・アフリカ
エジプト
南アフリカ
イスラエル
トルコ
GCC諸国
以下の企業は、主要な専門家から収集した情報に基づき、企業の事業範囲、製品ポートフォリオ、市場浸透度を分析した結果、選定されました。

三井化学
S&S Tech
Canatu

TSMC

FST

本レポートで取り上げる主な質問

世界のEUVレチクル用ペリクル市場の10年間の見通しは？

世界および地域別に、EUVレチクル用ペリクル市場の成長を牽引する要因は？

市場別・地域別に見ると、どの技術が最も急速な成長が見込まれるでしょうか？

EUVレチクル用ペリクルの市場機会は、最終市場規模によってどのように異なるのでしょうか？

EUVレチクル用ペリクルは、タイプ別、用途別にどのように分類されるのでしょうか？

■ 各チャプターの構成

第１章 レポートの範囲、市場概要、調査期間、目的、方法論、データソース、経済指標、考慮通貨、市場推定に関する注意点が説明されています。

第２章 世界市場の概要、タイプ別（透過率別）およびアプリケーション別（IDM、ファウンドリー別）の市場分析、売上、収益、価格が要約されています。

第３章 企業別の販売データ、収益、価格、主要メーカーの生産・販売地域、製品タイプ、市場集中度分析、新規参入企業、M&A活動および戦略が詳細に記載されています。

第４章 過去の世界市場規模について、地域別および国別の販売実績と収益、ならびにアメリカ、APAC、ヨーロッパ、中東＆アフリカにおける販売成長率が回顧的に分析されています。

第５章 アメリカ市場における国別の販売実績と収益、タイプ別およびアプリケーション別の販売状況、ならびに米国、カナダ、メキシコ、ブラジルの詳細な市場状況が提供されています。

第６章 APAC市場における地域別の販売実績と収益、タイプ別およびアプリケーション別の販売状況、ならびに中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリア、中国台湾の詳細な市場状況が提供されています。

第７章 ヨーロッパ市場における国別の販売実績と収益、タイプ別およびアプリケーション別の販売状況、ならびにドイツ、フランス、英国、イタリア、ロシアの詳細な市場状況が提供されています。

第８章 中東＆アフリカ市場における国別の販売実績と収益、タイプ別およびアプリケーション別の販売状況、ならびにエジプト、南アフリカ、イスラエル、トルコ、GCC諸国の詳細な市場状況が提供されています。

第９章 市場の推進要因と成長機会、市場の課題とリスク、および業界の主要トレンドが分析されています。

第１０章 原材料とサプライヤー、製造コスト構造、製造プロセス、および業界チェーン構造が分析されています。

第１１章 販売チャネル（直接チャネル、間接チャネル）、流通業者、および顧客に関する情報が提供されています。

第１２章 世界市場規模の地域別予測（販売、収益）、アメリカ、APAC、ヨーロッパ、中東＆アフリカの国別予測、ならびにタイプ別およびアプリケーション別の世界市場予測が収録されています。

第１３章 主要企業の分析として、各社の企業情報、製品ポートフォリオと仕様、販売・収益・価格・粗利益（2021-2026年）、主要事業概要、および最新の動向が詳細に記載されています。

第１４章 調査結果の要約と結論が述べられています。

■ EUVレチクル用ペリクルについて

EUVレチクル用ペリクルは、極紫外線（EUV）リソグラフィーにおいて非常に重要な役割を果たす部品です。ペリクルは、レチクルと呼ばれるマスクの表面に取り付けられる透明な膜であり、リソグラフィ工程での汚染を防ぐために使用されます。EUVリソグラフィーは、半導体製造における微細なパターン形成に必要不可欠であり、ペリクルはそのプロセスの精度と効率を保つための保護手段となっています。

EUVレチクル用ペリクルの主な役割は、外部からの微小な異物や粒子、化学物質などがレチクルの表面に付着するのを防ぐことです。これらの汚染物質は、最終的な半導体デバイスの品質に悪影響を与え、性能低下や欠陥を引き起こす可能性があります。そのため、ペリクルが存在することで、クリーンな製造環境を維持し、製品の歩留まりを向上させることができます。

ペリクルにはいくつかの種類があります。一般的には、ペリクルの素材や構造によって分類されます。例えば、シリコン、フッ素化ポリマー、または酸化物材料を使用することがあります。それぞれの材質には異なる特性があり、光学透過率や機械的強度、化学耐性などが影響します。特に、EUV光に対して高い透過率を持つ材料が求められます。また、ペリクルはレチクルと同様に非常に高い精度で作成されなければならないため、製造プロセスも精密です。

EUVレチクル用ペリクルの用途は、主に半導体製造プロセスに関連しています。製造ラインでは、リソグラフィー工程でレチクルを使用してシリコンウェハ上に微細なパターンを転写します。このとき、ペリクルがレチクルを保護することで、発生する可能性のある異物によるトラブルを回避します。これにより、製造工程のコストを削減し、製品品質の向上に寄与します。

さらに、EUVリソグラフィーはその特性上、非常に短い波長の光を使用するため、従来のリソグラフィー方式とは異なる技術的な課題が存在します。これに伴い、ペリクルの設計も独自の技術を必要とします。特に、EUV波長に最適化された透過率と薄さを兼ね備えたペリクルは、開発が進められています。

ペリクルに関連する技術も進化しています。たとえば、ペリクルの表面加工技術、コーティング技術、さらには自動化された製造プロセスなどが挙げられます。これらの技術革新は、ペリクルの品質向上や生産性の向上に寄与しています。また、今後の進展として、より高性能な新素材の開発や、異物検出技術との連携が期待されており、これにより更なるクリーンルーム環境の維持が可能になるでしょう。

問題が発生した際の管理やメンテナンスも重要なポイントです。ペリクルが汚れたり損傷した場合、その影響は大きいため、定期的な検査や交換が求められます。これには、一定のコストが伴いますが、製品の信頼性を確保する上で非常に重要です。

今後もEUVレチクル用ペリクルは、半導体製造の進化とともにますます重要な役割を果たすと考えられます。特に、新しいプロセス技術や素材の開発が進む中で、ペリクルもその進化に対応して柔軟に変化していく必要があります。このように、EUVレチクル用ペリクルは、半導体産業の基盤を支える重要な要素としての地位を確立し続けるでしょう。

■ 本調査レポートに関するお問い合わせ・お申込みはこちら　
　　⇒ https://www.marketresearch.co.jp/contacts/
・レポートの形態：英文PDF（Eメールによる納品）
・日本語タイトル：EUVレチクル用ペリクルの世界市場2026年～2032年
・英語タイトル：Global Pellicles for EUV Reticles Market 2026-2032

■株式会社マーケットリサーチセンターについて
https://www.marketresearch.co.jp/
主な事業内容：市場調査レポ－トの作成・販売、市場調査サ－ビス提供
本社住所：〒105－0004東京都港区新橋1－18－21
TEL：03－6161－6097、FAX：03－6869－4797
マ－ケティング担当、marketing@marketresearch.co.jp