世界初の小型レーザー平面加熱装置『ExLASER Lite』を、12月開催の SEMICON JAPAN 2009に出展！

世界で唯一のレーザー平面加熱装置「ExLASER」(エックス・レーザー)を開発した坂口電熱株式会社(所在地：東京都千代田区、代表取締役社長：蜂谷 真弓)は、従来機を小型化し、小面積加熱を実現した『ExLASER Lite(エックス・レーザー ライト)』を開発いたしました。

その『ExLASER Lite』を、12月2日より行われる「SEMICON JAPAN 2009」に出展し、シリコンウェハーの加熱実演、加熱実験の予約受付を行います。

世界で唯一の装置を身近に感じることができる機会です。是非ご参加ください。

詳細： http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/exhibitor/10133.html


■『ExLASER Lite』について
東京商工会議所主催の第7回「勇気ある経営大賞」(2009年)で『勇気ある経営大賞』を受賞した「ExLASER」の小型版です。
レーザー1ショット(4秒)で1,000℃まで高速に昇温でき、かつ0.5インチ径を均一に加熱することができます。スイッチを切って7秒で400℃まで降温できるという急昇降を実現いたしました。

半導体製造の現場では、シリコンウェハーを高温で加熱し、温度を急降下させる過程がありますので、『ExLASER Lite』により作業の効率化、コスト削減を図ることができます。

『ExLASER Lite』の特徴は、以下の通りです。

・従来のExLASERに比べコンパクト設計
・小面積(φ0.5インチ)、1ショット加熱を実現
・ワイドラック収納一体型。キャスター付きで移動が可能
・操作が簡単！
・従来機同様に超高速な昇温降温を実現
・被加熱対象物のみへの直接加熱。雰囲気を加熱しません


■SEMICON JAPAN 2009出展について

『ExLASER Lite』を使い、0.5インチ径サイズ　シリコンウェハーの加熱実演を行います。また、当日ご来場いただいたお客様には、それぞれのお客様が加熱したい物をお持ちいただき、『ExLASER Lite』での加熱を試すことができる加熱実験のご予約を承ります。

通常は1回20万円かかるこの実験を、会期中のみ、1回5万円という特別価格にてご提供いたします。

開催地　： 幕張メッセ
開催日時： 2009年12月2日(水)～4日(金)
小間番号： 3D-008
詳細　　： http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/exhibitor/10133.html
参加方法： 入場には、 http://www.semiconjapan.org/sj-jp/Exhibition/Register/index.htm?parent=yes&parentId=89 より事前登録が必要です。
参加費　： 無料


■坂口電熱株式会社　会社概要
社名　　： 坂口電熱株式会社(SAKAGUCHI E.H VOC CORP.)
本社　　： 〒101-0021　東京都千代田区外神田1-12-2
代表　　： 代表取締役社長　蜂谷 真弓
創業　　： 1923年(大正12年)
資本金　： 460,000,000円
TEL　　 ： 03-3253-8211(大代表)
FAX　　 ： 03-3253-7540
URL　　 ： http://www.sakaguchi.com/
事業内容： 電熱技術を中心とした真空・バイオ・光学・化学分野の製品開発、
　　　　　 電熱機器の製造・販売


■ご予約に関するお問い合わせ先
坂口電熱株式会社　経営戦略室　経営企画課
TEL　 ： 03-5669-4424
FAX　 ： 03-3632-3208
E-MAIL： m_igarashi@sakaguchi.com