世界初の小型レーザー平面加熱装置『ExLASER Lite』を、12月開催の SEMICON JAPAN 2009に出展！

世界で唯一のレーザー平面加熱装置「ExLASER」(エックス・レーザー)を開発した坂口電熱株式会社(所在地：東京都千代田区、代表取締役社長：蜂谷 真弓)は、従来機を小型化し、小面積加熱を実現した『ExLASER Lite(エックス・レーザー ライト)』を開発いたしました。 その『ExLASER Lite』を、12月2日より行われる「SEMICON JAPAN 2009」に出展し、シリコンウェハーの加熱実演、加熱実験の予約受付を行います。 世界で唯一の装置を身近に感じることができる機会です。是非ご参加ください。 詳細： http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/exhibitor/10133.html ■『ExLASER Lite』について 東京商工会議所主催の第7回「勇気ある経営大賞」(2009年)で『勇気ある経営大賞』を受賞した「ExLASER」の小型版です。 レーザー1ショット(4秒)で1,000℃まで高速に昇温でき、かつ0.5インチ径を均一に加熱することができます。スイッチを切って7秒で400℃まで降温できるという急昇降を実現いたしました。 半導体製造の現場では、シリコンウェハーを高温で加熱し、温度を急降下させる過程がありますので、『ExLASER Lite』により作業の効率化、コスト削減を図ることができます。 『ExLASER Lite』の特徴は、以下の通りです。 ・従来のExLASERに比べコンパクト設計 ・小面積(φ0.5インチ)、1ショット加熱を実現 ・ワイドラック収納一体型。キャスター付きで移動が可能 ・操作が簡単！ ・従来機同様に超高速な昇温降温を実現 ・被加熱対象物のみへの直接加熱。雰囲気を加熱しません ■SEMICON JAPAN 2009出展について 『ExLASER Lite』を使い、0.5インチ径サイズ　シリコンウェハーの加熱実演を行います。また、当日ご来場いただいたお客様には、それぞれのお客様が加熱したい物をお持ちいただき、『ExLASER Lite』での加熱を試すことができる加熱実験のご予約を承ります。 通常は1回20万円かかるこの実験を、会期中のみ、1回5万円という特別価格にてご提供いたします。 開催地　： 幕張メッセ 開催日時： 2009年12月2日(水)～4日(金) 小間番号： 3D-008 詳細　　： http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/exhibitor/10133.html 参加方法： 入場には、 http://www.semiconjapan.org/sj-jp/Exhibition/Register/index.htm?parent=yes&parentId=89 より事前登録が必要です。 参加費　： 無料 ■坂口電熱株式会社　会社概要 社名　　： 坂口電熱株式会社(SAKAGUCHI E.H VOC CORP.) 本社　　： 〒101-0021　東京都千代田区外神田1-12-2 代表　　： 代表取締役社長　蜂谷 真弓 創業　　： 1923年(大正12年) 資本金　： 460,000,000円 TEL　　 ： 03-3253-8211(大代表) FAX　　 ： 03-3253-7540 URL　　 ： http://www.sakaguchi.com/ 事業内容： 電熱技術を中心とした真空・バイオ・光学・化学分野の製品開発、 　　　　　 電熱機器の製造・販売 ■ご予約に関するお問い合わせ先 坂口電熱株式会社　経営戦略室　経営企画課 TEL　 ： 03-5669-4424 FAX　 ： 03-3632-3208 E-MAIL： m_igarashi@sakaguchi.com