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レチクル検査・計測装置市場調査レポート：成長要因と投資機会分析2026

LP Information最新市場レポート「世界レチクル検査・計測装置市場の成長予測2026～2032」

その他

2026年2月9日 17:30

検査の種類により、半導体品質管理装置は検査装置（インスペクション）と計測装置（メトロロジー）に分類される。
半導体検査は半導体製造プロセス全体、すなわちフロントエンドとバックエンドに貫通する。半導体検査には光学検査、電子線検査および X 線計測がある。主にウェーハ表面または回路構造にスクラッチ、パーティクル汚染、パターンエラーなどの異常な品質状態が発生しているかどうかを検出する。異なる検査技術には明確な違いがあり、主に精度、速度および検査用途に体现される。

現状から見れば、光学検査は半導体検査技術の主流である。半導体光学検査の種類にはパターン有り、パターン無しおよびレチクル検査が含まれる。其中、パターン欠陥検査はさらに明視野検査と暗視野検査に分かれ、両者はいずれも光信号を通じて分析を行う。違いは、明視野が垂直反射光信号を利用するのに対し、暗視野が散乱光信号を利用する点にある。
レチクルはフォトマスク、マスクとも呼ばれ、英語では Photomask、Mask または Reticle と表記され、マイクロエレクトロニクス加工技術でよく使用されるリソグラフィプロセスに用いられるパターン元版である。レチクルはパターン情報のキャリアとして、露光プロセスを通じてパターンを基材に転写し、それによりパターンの転写を実現する。
半導体リソグラフィプロセスにおいて、異なるレチクルに対して対応する光源を使用する必要がある。異なるレチクルの用途差は大きく、総じてバイナリマスク、位相シフトマスクおよび EUV レチクルに分類される。EUV レチクルは EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術のために設計された新型レチクルである。EUV の波長が極めて短く、多くの材料に吸収されやすい特性を鑑み、レンズなどの伝統的な屈折素子は使用できず、ブラッグ則に基づき多層膜（ML）構造を通じて光線の反射を実現する（EUV と異なり、DUV は透過光を使用する）。同種のレチクルは 7nm、5nm、3nm および 2nm（TSMC は 2025 年量産を計画）のハイエンド製造プロセスに広く応用されている。
総じて、レチクル検査・計測装置は先進プロセスの歩留まりを保障するキーツールである。検査装置は欠陥の発見を担当し、計測装置は寸法とアライメント精度の確保を担当する。リソグラフィが EUV 時代に入るにつれ、レチクルの欠陥制御と精度計測に対する要求はますます高まるだろう。
注：本稿はレチクル基板（Mask Blank）の検査および計測装置を含まない。中国市場とは中国本土を指し、中国台湾は単独で統計する。

産業の特徴：精度競争と技術融合が生む高付加価値産業
レチクル検査・計測装置産業の最大の特徴は、極限的な精度と高速処理能力の追求である。1ナノメートル未満の欠陥を検出し、リアルタイムに解析するためには、光学・機械・AI画像解析・データサイエンスといった複合技術が密接に融合している。特にEUVリソグラフィの普及に伴い、従来の可視光・深紫外（DUV）検査では検出困難な欠陥に対応するため、新たな光学設計や高感度センサーの開発競争が激化している。また、レチクルのコスト上昇やマルチパターン露光の複雑化により、検査効率の最適化と自動化も重要テーマとなっている。こうした背景のもと、この産業は「超高精度×データ駆動型」の新たな産業モデルへと進化を遂げつつあり、単なる装置ビジネスから、AI解析・クラウド連携を含むスマート製造の中核領域へと拡張している。

市場規模：CAGR10.9%の成長、2031年には44.34億米ドルへ
LP Informationの最新報告によれば、グローバルレチクル検査・計測装置市場は2025年から2031年にかけて年平均成長率（CAGR）10.9%で拡大し、2031年には市場規模が44.34億米ドルに達すると予測されている。この力強い成長の背景には、半導体微細化の進展とともにEUVリソグラフィ対応装置への需要が急増していることがある。特に5nm以下の先端プロセスを採用するファウンドリーやメモリメーカーにおいては、レチクル品質の安定性が製品歩留まりを直接左右するため、検査・計測への投資意欲が高い。また、北米とアジア太平洋地域が市場成長の牽引役となっており、前者は装置開発・技術供給の中心、後者は量産拠点としての導入拡大が進む。世界規模での供給ネットワーク構築と技術標準化の動きが市場拡大の土台を形成している。

主要企業：Lasertec、KLA、Carl Zeissが市場の8割を支配
市場構造を見ると、レチクル検査・計測装置分野は極めて寡占的である。LP Informationトップ企業研究センターのデータによれば、Lasertec、KLA、Carl Zeiss AGの3社が2024年時点で世界売上シェアの約81.0%を占めている。LasertecはEUVレチクル検査装置の分野で世界的な独占的地位を確立し、KLAは長年にわたり光学検査と計測アルゴリズムで圧倒的な技術基盤を築いている。Carl Zeissは光学系設計と高精度レンズ供給で他社の装置開発にも深く関与しており、この3社が業界全体の技術標準を事実上リードしている構図である。新興企業の参入障壁は高いが、一方でAI解析モジュールやクラウド連携型メトロロジープラットフォームといった周辺技術での協業機会が拡大しており、装置メーカー間の戦略提携も今後加速すると予想される。
将来展望：EUV時代の幕開けとインテリジェント検査の進化
今後のレチクル検査・計測装置市場は、EUV露光技術の量産拡大とともに新たな飛躍期を迎える。EUV対応レチクルの欠陥検出精度や透過率測定の高度化が求められる一方、装置のインテリジェンス化も進展している。AIによる自動欠陥分類、リアルタイムデータ解析、そしてクラウドベースの品質モニタリングなど、装置は「検査する機械」から「判断するシステム」へと変貌しつつある。また、環境負荷低減やコスト効率改善も業界共通の課題であり、省エネ設計やモジュール再利用などサステナビリティ指向の技術革新が進むだろう。半導体製造の最前線を支えるこの装置産業は、ナノスケールの光学技術とAI知能が融合することで、次の十年を通じてさらに高い精度と価値を生み出す原動力となるに違いない。
【レチクル検査・計測装置報告書の章の要約：全14章】
第1章では、レチクル検査・計測装置レポートの範囲を紹介するために、製品の定義、統計年、調査目的と方法、調査プロセスとデータソース、経済指標、政策要因の影響を含まれています
第2章では、レチクル検査・計測装置の世界市場規模を詳細に調査し、製品の分類と用途の規模、販売量、収益、価格、市場シェア、その他の主要指標を含まれています
第3章では、レチクル検査・計測装置の世界市場における主要な競争動向に焦点を当て、主要企業の売上高、収益、市場シェア、価格戦略、製品タイプと地域分布、産業の集中度、新規参入、M&A、生産能力拡大などを紹介します
第4章では、レチクル検査・計測装置の世界市場規模を、主要地域における数量、収益、成長率の観点から分析します
第5章では、アメリカ地域におけるレチクル検査・計測装置業界規模と各用途分野について、販売量と収益に関する詳細情報を探します
第6章では、アジア太平洋地域におけるレチクル検査・計測装置市場規模と各種用途を、販売量と収益を中心に分析します
第7章では、ヨーロッパ地域におけるレチクル検査・計測装置の産業規模と特定の用途について、販売量と収益について詳しく分析します
第8章では、中東・アフリカ地域におけるレチクル検査・計測装置産業の規模と様々な用途、販売量と収益について詳しく考察します
第9章では、レチクル検査・計測装置の業界動向、ドライバー、課題、リスクを分析します
第10章では、レチクル検査・計測装置に使用される原材料、サプライヤー、生産コスト、製造プロセス、関連サプライチェーンを調査します
第11章では、レチクル検査・計測装置産業の販売チャネル、流通業者、川下顧客を研究します
第12章では、レチクル検査・計測装置の世界市場規模を地域と製品タイプ別の売上高、収益、その他の関連指標で予測します
第13章では、レチクル検査・計測装置市場の主要メーカーについて、基本情報、製品仕様と用途、販売量、収益、価格設定、粗利益率、主力事業、最近の動向などの詳細情報を紹介します
第14章では、調査結果と結論