「世界の極端紫外線リソグラフィEUVLシステム市場」に関するプレスリリース

日本と世界の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場は2031年までに750億米ドルに達する、最先端の半導体イノベーションと先端チップ製造技術への需要増加が牽引役