EUVマスク欠陥検出装置市場分析：世界市場の成長、動向、機会、産業予測2026-2032

EUVマスク欠陥検出装置は、極端紫外線（EUV）リソグラフィーで使用されるフォトマスク上の微細な欠陥を検出・分類するための高度な検査機器であり、次世代半導体製造における品質保証の中核を担っている。EUVマスクは従来の光学マスクと異なり、多層構造かつ反射型であるため、欠陥の種類も複雑で、従来の可視光検査では検出が困難である。そのため、EUV波長に近い露光環境下での検査技術が求められ、特殊な照明系や高感度センサー技術、ナノレベルの位置制御技術が組み合わされた装置が開発されている。

この分野の技術的進展には、ナノメートル単位の解像度と高速スキャン能力の両立が不可欠であり、AIを活用した欠陥識別や、シミュレーションに基づく欠陥影響評価の導入が進んでいる。また、EUVマスク特有のマルチレイヤ構造に起因する「埋もれた欠陥」や、リソグラフィー工程で顕在化する潜在欠陥への対応も重要な課題とされている。欠陥の自動分類や修正可能性の判定機能を組み込んだシステム設計により、マスク修正プロセスとの連携が強化され、検査装置は単なる発見装置ではなく、工程全体の最適化を担う役割へと進化している。

路億市場戦略（LP Information）調査チームの最新レポートである「世界EUVマスク欠陥検出装置市場の成長予測2026～2032-LPI 市場調査会社」によると、2025年から2031年の予測期間中のCAGRが13.2%で、2031年までにグローバルEUVマスク欠陥検出装置市場規模は38.5億米ドルに達すると予測されている。

路億市場戦略（LP Information）のトップ企業研究センターによると、EUVマスク欠陥検出装置の世界的な主要製造業者には、Lasertec、KLA-Tencor、NuFlareなどが含まれている。2024年、世界のトップ3企業は売上の観点から約95.0%の市場シェアを持っていた。

企業の成長性に関しては、最先端EUV露光技術を支える唯一無二の装置として、高度な専門技術と継続的な研究開発が求められる。EUV導入を進める半導体メーカーとの密接な技術連携が不可欠であり、装置の性能だけでなく、解析アルゴリズムの更新や運用サポートの充実も差別化要素となる。今後、2nm以下のプロセス開発に向けて、より厳格なマスク品質管理が求められる中、EUVマスク検査装置の需要はさらに高まり、ニッチながら極めて戦略的価値の高い市場として継続的な成長が見込まれている。

詳細な資料については『世界EUVマスク欠陥検出装置市場の成長予測2026～2032-LPI 市場調査会社』をご参照ください。本報告書では、当該業界の需給状況、発展現状、業界の変化動向などを分析し、特に業界の発展現状、業界が直面する課題への対応策、業界発展に関する提言、業界競争力、ならびに業界投資分析とトレンド予測などを重点的に分析しています。さらに、業界全体の動向を総合的に分析し、米国の最新関税がグローバルサプライチェーンに与える影響、サプライチェーンにおける供給関係分析を含め、製品面での参考提案と具体的な解決策を提供しています。