極端紫外線露光装置の市場規模は2030年に600億米ドルに達する見込み-最新予測

極端紫外線露光装置の世界市場規模は、2022年から2030年までの予測期間中に25.1%の複合年間成長率で成長し、2030年には600億米ドルに達すると予測されます。

極端紫外線リソグラフィは、30nmの微細配線やマイクロチップ、マイクロプロセッサーなどの製造に用いられる優れた次世代リソグラフィ技術です。現在、微細加工に使われている光リソグラフィーに代わる技術として期待されている。回路設計の際に強く反射した紫外線をシリコンウエハーに焼き付けることで実現する。

異なるリソグラフィー方式に対する技術的優位性が、市場全体の拡大を牽引。

電子ガジェットにおけるサイズ縮小の差し迫った需要は、市場全体の拡大を推進すると予想される。

マイクロエレクトロニクスデバイスの販売の増加は、世界市場成長の成長を促進すると予想されます。

適切なフォトレジストの作成における問題や理想的なマスクの作成におけるハードルが、市場全体の拡大を阻害する要因となっています。

アジア太平洋地域は、家電製品に適した成長国の存在と半導体市場の優位性から、世界一のシェアを獲得しています。

北米は、政府による様々な政策や、研究開発に多額の資金を投入している主要企業の存在により、市場全体で最も高い成長を遂げると予想されます。

極端紫外線露光装置の世界市場における有力企業は以下の通りです。
ASML
キャノン(株)
株式会社ニコン
インテル株式会社
Samsung Electronics Co. Ltd.
台湾積体電路製造股份有限公司
トッパン・フォトマスクス株式会社
TSMC
その他

光源別区分：（真空スパーク、ガス放電、レーザー生成プラズマ）

装置別セグメント：（マスク、その他、光源、ミラー）

北米（アメリカ、カナダ、メキシコ）

欧州（英国、ドイツ、フランス、イタリア、スペイン、ポーランド、ロシア、オランダ、ベルギー、トルコ、北欧諸国、その他の欧州諸国）

アジア太平洋地域（中国、インド、日本、韓国、オーストラリア、ニュージーランド、ASEAN諸国、その他アジア太平洋地域）

中東・アフリカ（UAE、サウジアラビア、南アフリカ、イスラエル、クウェート、カタール、オマーン、MEA諸国、その他の地域）

南米（アルゼンチン、ブラジル、南米のその他地域）

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