Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場):市場傾向、需要、成長分析、および2026-2035年の予測

    その他
    2026年6月2日 13:00

    2026年5月26日、SDKI Analytics(本社:東京都渋谷区、代表:古川 功)は、2026-2035年の予測期間を対象とした「Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)」に関する調査を実施しました。

    市場調査レポートの詳細な洞察は、以下のURLにてご覧いただけます:
    https://www.sdki.jp/reports/photoresist-material-market/590642323

    調査結果公表日:2026年5月26日
    調査担当:SDKI Analytics
    調査対象範囲:当社の分析担当者が、542社の市場参入企業を対象に調査を実施しました。調査対象企業の規模は多岐にわたります。

    調査対象地域:北米(米国、カナダ)、中南米(メキシコ、アルゼンチン、その他の中南米諸国)、アジア太平洋地域(日本、中国、インド、ベトナム、台湾、インドネシア、マレーシア、オーストラリア、その他のアジア太平洋諸国)、ヨーロッパ(イギリス、ドイツ、フランス、イタリア、スペイン、ロシア、北欧諸国、その他のヨーロッパ諸国)、および中東とアフリカ(イスラエル、GCC、北アフリカ、南アフリカ、その他の中東とアフリカ諸国)

    調査手法:実地調査242件、オンライン調査300件
    調査期間:2026年3月-2026年4月
    調査のポイント:本調査レポートには、成長要因、課題、機会、および最新の市場動向を含む、Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)の市場傾向分析が盛り込まれています。さらに、同市場における主要企業の詳細な競合分析も提供しています。また、本市場調査には、市場セグメンテーションおよび地域別分析(日本および世界全体)も含まれています。

    市場概況

    SDKI Analyticsによる分析によると、Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)は、2025年には約55.8億米ドル、2035年には約95.2億米ドルの市場規模(収益額)に達すると予測されています。さらに、同市場は予測期間を通じて、年平均成長率(CAGR)約5.5%で成長すると見込まれています。

    SDKI Analytics(本社:東京都渋谷区、代表:古川 功)が実施した調査では、フォトレジスト材料市場が2025年の55.8億米ドルから2035年の95.2億米ドルへと成長し、年平均成長率5.5%を見込んでいます。

    フォトレジスト材料市場の市場規模推移、セグメンテーション、地域別シェア
    フォトレジスト材料市場の市場規模推移、セグメンテーション、地域別シェア

    市場概要

    SDKI AnalyticsによるPhotoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)に関する調査分析によると、同市場は、世界各地における半導体製造能力の急速な拡大を主因として成長が見込まれています。こうした先進的なウェーハ製造施設(ファブ)では、フォトレジストを含むリソグラフィ関連材料が大量に必要とされます。

    SEMI(国際半導体製造装置材料協会)のデータによれば、世界の半導体材料市場は2025年に735億米ドル規模に達し、年平均成長率(CAGR)6.8%で成長しました。同レポートでは、ウェーハ製造用材料の市場規模が458億米ドルに達したこと、そしてリソグラフィ関連材料が2桁台の成長を記録したことについても言及されています。

    さらに、半導体製造の国産化推進プログラムなど、各国政府による半導体製造振興策が、リソグラフィ材料に対する旺盛な需要を生み出しています。例えば、米国の「CHIPSおよび科学法(CHIPS and Science Act)」は、国内における半導体製造への投資を加速させており、市場の成長を後押ししています。

    最新ニュース

    当社の調査によると、Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)の各企業は、近年以下の通り事業展開を進めています:

    • 2025年5月、Aashi Kaseiは、AIサーバーに用いられる先端半導体パッケージにおける高まる需要に対応すべく設計された、ドライフィルムフォトレジスト「Sunfort」の新シリーズの発売を発表しました。

    • 2026年4月、Sumitomo Chemicalは、大阪市此花区に位置する大阪工場において、先端半導体向けフォトレジストの新製造設備を建設する計画を発表しました。

    市場セグメンテーション

    Photoresist Material Market (Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場))は、アプリケーション別に基づいて、半導体とIC、LCD、プリント基板、MEMS、その他に分割されています。これらのうち、半導体とICセグメントは、高度なリソグラフィ技術の採用拡大、世界的な半導体製造能力の大幅な増強、ならびにAI、5G、および車載用半導体に対する需要の高まりを背景に、予測期間を通じて61%という堅調な市場シェアを維持すると予測されています。

    地域概要

    Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)に関する当社の分析によると、アジア太平洋地域は予測期間中、日本、中国、インド、韓国における半導体製造能力の急速な拡大を背景に、40%という圧倒的な市場シェアを占め、年平均成長率(CAGR)においても5.7%という最速の伸びを記録すると予測されています。例えば、韓国の産業通商資源部によれば、2025年には半導体輸出が22.1%の伸びを示し、ICT(情報通信技術)関連の輸出総額が過去最高となる2,643億米ドルに達する見込みです。

    同様に、日本市場においても2026-2035年にかけて急速な成長が見込まれています。これは、半導体製造に対する政府投資に加え、AI(人工知能)や高性能コンピューティング(HPC)向け半導体の生産が急速に拡大していることによるものです。


    Photoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)の主要企業

    当社の調査レポートに記載の通り、世界のPhotoresist Material Market (フォトレジスト材料市場)における主要企業は以下の通りです:

    • DuPont Electronics & Industrial
    • Dow Chemical
    • Merck KGaA (AZ Electronic Materials)
    • BASF SE
    • Entegris Inc.

    さらに、日本市場における上位5社は以下の通りです:

    • Tokyo Ohka Kogyo (TOK)
    • JSR Corporation
    • Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    • Fujifilm Electronic Materials
    • Sumitomo Chemical Co., Ltd.

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