2023年〜2031年の予測:世界の極端紫外線リソグラフィ(EUVL)システム市場は、10億米ドルから75億米ドルに成長し、年平均成長率25.1%で拡大

    世界の極端紫外線リソグラフィ(EUVL)システム市場規模シェア、競争環境、トレンド分析レポート

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    2025年6月9日 08:30
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    世界の極端紫外線リソグラフィ(EUVL)システム市場は、2022年から2031年までに 100億米ドル から 750億米ドルまでの収益増加が見込まれ、2023年から2031年の予測期間にかけて年平均成長率(CAGR)が 25.1%で成長すると予測されています。

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    極端紫外線リソグラフィ(EUVL)は、30nmという微細なラインを形成し、マイクロチップやマイクロプロセッサーを開発するために利用される次世代リソグラフィ(NGL)技術の代表的なものの一つです。この技術は、現在の微細回路の形成に利用されている光リソグラフィに取って代わる可能性があります。EUVLシステムは、回路設計パターンから反射された強い紫外線ビームをシリコンウエハーに照射することで動作します。

    市場を牽引する要因:

    • 電子回路デバイスの小型化と高度化の採用が増加していることが、市場の成長を押し上げると推定されます。これは主に、マイクロプロセッサー内のトランジスターと電子回路の小型化により、これらのシステムの消費電力と密度が増加するためです。
    • 効率性を高めるためにプロセスを促進するメーカーが市場成長を促進すると推定されます。これは主に、人工知能がビジネスを可能にすることで脅威評価に大きく貢献するためです。さらに、ロジスティクスの変化によってもたらされる脅威を軽減します。その結果、完璧な半導体サプライチェーン手法の最終的な構成要素は、人工知能と予測システムによって可能になる欠陥の継続的なリアルタイムスキャンです。
    • 5G技術の影響は、市場に機会を創出すると推定されます。これは主に、モノのインターネット(IoT)、5G、自律走行といった半導体の可能性が引き続き出現するため、極端紫外リソグラフィ技術が今後も需要であり続けると予想されるためです。その結果、半導体製造企業は最先端の製造技術を取り入れることに集中します。
    • 適切なフォトレジストの開発における複雑さや、理想的なマスクの製造における課題は、市場の成長を妨げる主な要素の一部です。

    主要な企業:

    Canon Inc
    Nikon Corporation
    ASML
    Ultratech Inc.
    Vistec Semiconductor Systems
    Intel Corporation
    Nikon Corporation
    NuFlare Technology Inc.
    Samsung Corporation

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    セグメンテーションの洞察

    光源別
    レーザ生成プラズマ(LPP)セグメントがシェアで市場を独占し、今後もその優位性を維持すると予測されています。これは、レーザー生成プラズマの駆動システムの利用が増加していることが主因であり、1064nmのレーザー出力をマイクロリソグラフィ装置用の13.5nmの強力な紫外線(EUV)に効率的に変換します。
    装置別
    光源セグメントが最大シェアで市場を独占しています。これは、全世界の原子分光法の研究者が、将来のリソグラフィのためにさらに小さな波長の光源を開発し利用しようとしていることによるものです。
    ミラーセグメントは収益面で市場を独占しており、今後もその独占が続くと推定されます。これは、真空チャンバー内で超平滑な多層膜ミラーを利用した新しい光学システムを統合するメーカーが増加したことに起因しています。

    セグメンテーションの概要

    光源別

    • レーザー生成プラズマ (LPP)
    • 真空スパーク
    • ガス放電

    装置別

    • マスク
    • 光源
    • ミラー
    • その他

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    地域別分析

    北米が最大のシェアを占めています。これは継続的な技術進歩によるものと考えられます。また、5Gコネクティビティ、人工知能(AI)、拡張現実(AR)、その他多数のシステムの必要性に伴い、マイクロチップの需要が急増しました。これは、同市場のプレーヤーに大きな可能性をもたらしています。
    アジア太平洋が収益面で市場を独占すると推定されます。これは、同地域に多数の半導体主要なプレーヤーが存在すること、及び同国でメモリなどの半導体デバイスが多く使用されていることによるものです。さらに、半導体産業の即時の説明は、この地域の極端紫外線リソグラフィ(EUVL)システム市場を後押しすると推定されます。

    地域別

    • 北アメリカ
    o アメリカ
    o カナダ
    o メキシコ
    • ヨロッパー
    o 西ヨロッパー
     イギリス
     ドイツ
     フランス
     イタリア
     スペイン
     その地の西ヨロッパー
    o 東ヨロッパー
     ポーランド
     ロシア
     その地の東ヨロッパー
    • アジア太平洋
    o 中国
    o インド
    o 日本
    o オーストラリアおよびニュージーランド
    o 韓国
    o ASEAN
    o その他のアジア太平洋
    • 中東・アフリカ(MEA)
    o サウジアラビア
    o 南アフリカ
    o UAE
    o その他のMEA
    • 南アメリカ
    o アルゼンチン
    o ブラジル
    o その他の南アメリカ

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