世界CMP後のクリーニングソリューション市場調査:2031年までCAGR6.4%で成長予測

    調査・報告
    2025年10月23日 16:55

    CMP後のクリーニングソリューション世界総市場規模

    CMP後のクリーニングソリューションとは、半導体ウエハー表面からスラリー粒子や金属汚染、化学残渣を除去し、デバイス欠陥を防止するための精密洗浄技術である。CMP工程は微細化・多層化が進む半導体製造において不可欠な平坦化プロセスであるが、その直後に残留するナノレベルの汚染が歩留まりや信頼性に大きく影響を及ぼす。このため、クリーニングソリューションは単なる補助工程ではなく、プロセス統合の最終品質を決定づける要素技術として位置づけられている。
    近年のクリーニング液は、酸化膜や金属膜など材料特性に応じた界面化学設計が進み、パーティクル除去能力と表面保護性能の両立が求められている。特に高アスペクト比構造や先端ロジックデバイスにおいては、選択的な化学反応制御による「傷をつけない洗浄」が重要なテーマとなっている。CMP後洗浄の高度化は、半導体製造の収率最適化・信頼性確保の鍵を握る技術である。

    図. CMP後のクリーニングソリューション世界総市場規模

    上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバルCMP後のクリーニングソリューションのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。
    上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバルCMP後のクリーニングソリューションのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。

    微細化トレンドが牽引する需要成長

    YHResearch調査チームの最新レポート「グローバルCMP後のクリーニングソリューションのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」によると、2024年の225百万米ドルから2031年には350百万米ドルに成長し、2025年から2031年の間にCAGRは6.4%になると予測されている。

    とりわけロジック・メモリともに10nm以下世代への移行が進む中で、従来の酸・アルカリ系洗浄剤に代わる低ダメージ型化学剤や界面活性剤の需要が急拡大している。これにより、CMP後の洗浄工程は単なる「後処理」から「プロセス制御の一部」へと認識が変化しつつある。
    さらに、データセンター・AIサーバー・EVパワーデバイス向けの高性能チップ需要が増加することで、ウエハー品質要求が厳格化している。これに対応するため、クリーニングソリューションは物理的・化学的洗浄のハイブリッド化やリアルタイムモニタリング技術との融合へと進化している。市場拡大の背景には、半導体製造プロセスの複雑化と高歩留まり追求がある。

    図. 世界のCMP後のクリーニングソリューション市場におけるトップ8企業のランキングと市場シェア(2024年の調査データに基づく;最新のデータは、当社の最新調査データに基づいている)

    上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバルCMP後のクリーニングソリューションのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。
    上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバルCMP後のクリーニングソリューションのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。

    YHResearchのトップ企業研究センターによると、CMP後のクリーニングソリューションの世界的な主要製造業者には、Entegris、Merck、Mitsubishi Chemicalなどが含まれている。2024年、世界のトップ3企業は売上の観点から約65.0%の市場シェアを持っていた。

    Entegrisを筆頭とする多極的技術競争

    競争環境を見ると、Entegrisが世界市場のトップシェアを維持しており、高純度化学品とCMP後洗浄技術を一体化したプロセスソリューションを展開している。次いでMerckが高純度薬液と材料分析技術を強みにシェアを拡大し、Mitsubishi Chemicalが日本勢としてグローバルサプライチェーンを確立している。これにBASF、Kanto Chemical、Fujifilm、DuPont、Anji Microelectronicsなどが続き、各社が独自の化学設計・プロセス連携力で競合している。
    欧米メーカーは高付加価値型ソリューションとプロセス統合能力に強みを持ち、日本企業は薬液精製技術と品質安定性、環境対応力で高評価を得ている。中国メーカーは低コストと地域供給力を武器に台頭しており、市場構造は多極化が進行している。
    競争の焦点は、微細化対応力と環境適合性の両立である。すなわち、高選択性洗浄と廃液処理効率の両面で優れた化学ソリューションを確立できる企業が、次世代半導体製造のパートナーとして地位を確立することになる。CMP後クリーニング分野は、単なる化学薬液市場ではなく、プロセス最適化を通じた付加価値創出の競争領域へと進化している。

    環境対応とプロセス統合が鍵を握る

    今後のCMP後クリーニングソリューション市場を支える主な潮流は、環境対応・プロセス統合・高度材料対応の三点である。まず、化学薬品の使用量削減と廃液再利用の取り組みが加速しており、グリーンプロセス技術の導入が進む。水系洗浄と化学薬液のハイブリッド化、低VOC薬剤の採用など、環境規制への対応が新たな競争要素となっている。

    次に、CMPスラリー・パッド・クリーニング液の一体開発が進展しており、プロセス全体の最適化を志向する動きが強まっている。洗浄液単体の性能よりも、プロセスチェーン全体における歩留まり最適化が重視される傾向にある。

    さらに、次世代材料としてのSiC、GaN、低k膜、ハイブリッド積層構造など多様な材料系への対応が不可欠となっている。これに対応するためには、材料表面反応を分子レベルで制御するケミカルデザインとプロセス知識の融合が求められる。
    CMP後クリーニングソリューションは、半導体製造の「見えない最終工程」でありながら、チップ品質と生産効率を左右する核心技術である。その重要性は今後さらに高まり、環境適合と高精度制御を両立させる企業が、グローバルサプライチェーンの中核を担うことになるだろう。

    会社概要
    YH Research(YHリサーチ)は、グローバルビジネスをサポートする市場調査と情報提供の企業です。業界調査レポート、カスタムレポート、IPOアドバイザリーサービス、ビジネスプラン作成など、企業の成長と発展を支援するサービスを提供しています。 世界5カ国にオフィスを構え、100カ国以上の企業に正確で有益なデータを提供し、業界動向や競合分析、消費者行動分析などを通じて、企業が市場の変化に迅速に対応できるようサポートしています。

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    https://www.yhresearch.co.jp/reports/797040/post-cmp-cleaning-solutions

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    住所:東京都中央区勝どき五丁目12番4-1203号
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