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半導体EUVペリクルの世界市場（2026年～2032年）、市場規模（透過率90%超、透過率90%以下）・分析レポートを発表

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2026年8月19日 11:00

株式会社マーケットリサーチセンター（本社：東京都港区、世界の市場調査資料販売）では、「半導体EUVペリクルの世界市場（2026年～2032年）、英文タイトル：Global Semiconductor EUV Pellicles Market 2026-2032」調査資料を発表しました。本資料には、半導体EUVペリクルの世界市場規模、市場動向、セグメント別予測（透過率90%超、透過率90%以下）、関連企業の情報などが盛り込まれています。

■ 主な掲載内容

世界の半導体EUVペリクル市場規模は、2025年の1億200万米ドルから2032年には1億8400万米ドルへと拡大すると予測されており、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）8.9%で成長すると見込まれています。
半導体EUVペリクルは、半導体チップの製造に使用される薄く透明なフィルムです。これらは、半導体製造プロセスで使用される高温や過酷な化学薬品に耐えられる材料で作られています。EUVは「極端紫外線（Extreme Ultraviolet）」の略で、リソグラフィープロセスにおいて半導体材料にパターンを形成し、エッチングするために使用される放射線の一種です。ペリクルは、フォトマスクから半導体基板へパターンを転写する役割を果たし、複雑な電子回路の製造を可能にするため、このプロセスにおいて極めて重要な役割を担っています。
当初、ペリクルはポリシリコン製のコア層を持つ単層構造でした。2021年以降、EUVペリクルには複合材料が採用されています。現在、その主要構成要素は、二ケイ化モリブデン（MoSi₂）層とシリコン（Si）層が交互に積層された多層構造となっています。EUV透過率（EUVT）は、EUVペリクルの重要な性能指標です。単層構造から多層構造への移行により、EUVTは約82%から約90%へと向上しました。次世代のフィルム技術は、構造上の変化（単層から多層へ）にとどまらず、材料の進歩も取り入れ、CNTペリクルの登場につながります。
人工知能（AI）やコンピューティング技術の進歩に牽引され、半導体業界における先進チップへの需要は拡大し続けており、中でもEUV技術を用いて製造される7nm以下のチップの成長が最も急速です。7nm以下の先進プロセスでは、マスク上のパターンサイズがわずか数十ナノメートルになる場合があり、ペリクルの均一性や欠陥制御に対して極めて厳しい要件が課されます。次世代の高出力EUVリソグラフィ装置は500W以上で動作し、チップ製造中にフォトマスクを粒子汚染から保護するためにEUV用フィルムが必要とされている。
近年、チップメーカーが先進的なチップ製造に極端紫外線（EUV）プロセスを採用する動きが急速に広がっている。この高まる需要に応えるため、多くの企業がEUVプロセス用の保護フィルムを開発している。
ASMLは2019年に初のEUVペリクルを発売し、その技術を三井化学にライセンス供与した。三井化学は2021年に量販を開始した。それ以来、ASMLはペリクルの改良を重ねている。三井化学の次世代CNTペリクル生産施設は2025年末までに完成する見込みであると報じられている。
2021年、韓国のS&S Tech社は透過率90%を超えるペリクルを開発した。FSTのEUVペリクルは依然として開発段階にある。
Canatu社は2015年からImecと協力し、寿命や透過率、耐熱性、透過性、強度といった性能目標を満たすCNTペリクルの開発に取り組んでいる。
「半導体EUVペリクル産業予測」では、過去の売上実績を検証し、2025年の世界の半導体EUVペリクル総売上高を分析するとともに、2026年から2032年までの予測売上高について、地域および市場セクター別の包括的な分析を提供しています。本レポートでは、半導体EUVペリクルの売上高を地域、市場セクター、サブセクター別に分類し、世界の半導体EUVペリクル産業について、単位：百万米ドルで詳細な分析を提供しています。
本インサイトレポートは、世界の半導体EUVペリクル市場の全体像を包括的に分析し、製品セグメンテーション、企業動向、収益、市場シェア、最新の開発動向、M&A活動に関連する主要なトレンドを明らかにします。また本レポートでは、半導体EUVペリクルのポートフォリオと技術力、市場参入戦略、市場での位置づけ、および地理的展開に焦点を当て、世界的な半導体EUVペリクル市場の急速な拡大の中で、主要グローバル企業の独自の立場をより深く理解できるよう、各社の戦略を分析しています。
本インサイトレポートは、半導体EUVペリクルの世界的な見通しを形作る主要な市場動向、推進要因、および影響要因を評価し、タイプ別、用途別、地域別、市場規模別に予測を細分化することで、新たな機会の領域を浮き彫りにします。数百件に及ぶボトムアップ型の定性的・定量的市場データに基づく透明性の高い方法論により、本調査の予測は、世界の半導体EUVペリクル市場の現状と将来の軌跡について、極めて精緻な見解を提供します。
本レポートでは、製品タイプ、用途、主要メーカー、主要地域および国別に、半導体EUVペリクル市場の包括的な概要、市場シェア、成長機会を提示しています。

タイプ別セグメンテーション：
透過率90%以上
透過率90%以下

用途別セグメンテーション：
IDM
ファウンドリ

本レポートでは、地域別にも市場を区分しています：
南北アメリカ
米国
カナダ
メキシコ
ブラジル
アジア太平洋地域（APAC）
中国
日本
韓国
東南アジア
インド
オーストラリア
欧州
ドイツ
フランス
英国
イタリア
ロシア
中東・アフリカ
エジプト
南アフリカ
イスラエル
トルコ
GCC諸国

以下に紹介する企業は、主要な専門家からの情報および各社の事業範囲、製品ポートフォリオ、市場浸透度を分析した上で選定されています。
ASML
Canatu
三井化学
S & S Tech
FST

本レポートで取り上げる主な課題
世界の半導体EUVペリクル市場の10年先の見通しは？
世界全体および地域別に、半導体EUVペリクル市場の成長を牽引している要因は何か？
市場および地域別に、最も急速な成長が見込まれる技術はどれか？
半導体EUVペリクル市場の機会は、エンド市場の規模によってどのように異なるか？
半導体EUVペリクルは、タイプ別、用途別にどのように分類されるか？

■ 各チャプターの構成

第1章「レポートの範囲」には、半導体EUVペリクル市場の導入、レポートの対象期間、調査目的、採用された市場調査方法、具体的な調査プロセスとデータソース、関連する経済指標、使用される通貨、そして市場推定における注意点などの情報が記載されています。

第2章「エグゼクティブサマリー」には、世界の半導体EUVペリクル市場の概要が収録されています。具体的には、2021年から2032年までの年間売上予測、2021年、2025年、2032年における地域別および国/地域別の現状と将来分析が示されます。また、タイプ別（透過率90%以上、透過率90%以下）のセグメント分析として、2021年から2026年までの世界市場におけるタイプ別の販売市場シェア、収益と市場シェア、および販売価格が詳細に分析されています。さらに、用途別（IDM、ファウンドリ）のセグメント分析として、2021年から2026年までの世界市場における用途別の販売市場シェア、収益と市場シェア、および販売価格も網羅されています。

第3章「企業別グローバル分析」には、半導体EUVペリクル市場における各企業の詳細な分析が示されています。具体的には、2021年から2026年までの企業別の年間販売量と販売市場シェア、年間収益と収益市場シェア、販売価格が提供されます。主要メーカーの半導体EUVペリクル製品の生産拠点分布、各プレイヤーが提供する製品、市場集中度分析（競争状況、CR3、CR5、CR10の集中度とその2024年から2026年までの推移）、新製品の動向と潜在的参入企業、市場におけるM&A活動と戦略についても詳細な分析が収録されています。

第4章「半導体EUVペリクル地域別世界過去レビュー」には、2021年から2026年までの半導体EUVペリクル市場の歴史的なデータが地域別および国/地域別に詳述されています。具体的には、地域別および国/地域別の年間販売量と年間収益の推移が分析されています。また、アメリカ地域、APAC地域、ヨーロッパ地域、中東・アフリカ地域における半導体EUVペリクルの販売成長率がそれぞれ示されています。

第5章「アメリカ地域」には、アメリカ地域の半導体EUVペリクル市場に関する詳細な分析が記載されています。具体的には、2021年から2026年までの国別（米国、カナダ、メキシコ、ブラジルなど）の販売量と収益、タイプ別の販売量、用途別の販売量が網羅されています。

第6章「APAC地域」には、アジア太平洋地域（APAC）の半導体EUVペリクル市場に関する詳細な分析が記載されています。具体的には、2021年から2026年までの地域別（中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリア、中国台湾など）の販売量と収益、タイプ別の販売量、用途別の販売量が網羅されています。

第7章「ヨーロッパ地域」には、ヨーロッパの半導体EUVペリクル市場に関する詳細な分析が記載されています。具体的には、2021年から2026年までの国別（ドイツ、フランス、英国、イタリア、ロシアなど）の販売量と収益、タイプ別の販売量、用途別の販売量が網羅されています。

第8章「中東・アフリカ地域」には、中東およびアフリカ地域の半導体EUVペリクル市場に関する詳細な分析が記載されています。具体的には、2021年から2026年までの国別（エジプト、南アフリカ、イスラエル、トルコ、GCC諸国など）の販売量と収益、タイプ別の販売量、用途別の販売量が網羅されています。

第9章「市場の推進要因、課題、トレンド」には、半導体EUVペリクル市場の成長を促進する主要な要因と将来の成長機会が特定されています。また、市場が直面する課題やリスク、および業界全体の主要なトレンドが詳細に分析されています。

第10章「製造コスト構造分析」には、半導体EUVペリクルの製造に関するコスト構造が詳細に分析されています。具体的には、原材料と主要サプライヤー、製品の製造コスト構造の内訳、製造プロセスの詳細な分析、および半導体EUVペリクル業界の産業チェーン構造が説明されています。

第11章「マーケティング、流通業者、顧客」には、半導体EUVペリクルの販売戦略に関する情報が提供されています。具体的には、直接チャネルと間接チャネルを含む販売チャネル、主要な流通業者、および主要な顧客層に関する詳細が記載されています。

第12章「半導体EUVペリクル地域別世界予測レビュー」には、半導体EUVペリクル市場の将来予測が提供されています。具体的には、2027年から2032年までの世界市場規模の地域別予測（販売量と年間収益）、アメリカ地域、APAC地域、ヨーロッパ地域、中東・アフリカ地域の国別予測、ならびにタイプ別および用途別の世界市場予測が詳細に示されています。

第13章「主要企業分析」には、半導体EUVペリクル市場の主要プレイヤーであるASML、Canatu、Mitsui Chemicals、S & S Tech、FSTの各社に関する詳細な分析が収録されています。各企業について、企業情報、半導体EUVペリクル製品のポートフォリオと仕様、2021年から2026年までの販売量、収益、価格、粗利益、主要事業概要、および最新の動向が個別に記載されています。

第14章「調査結果と結論」には、レポート全体の主要な調査結果が要約され、それに基づいた結論が示されています。

■ 半導体EUVペリクルについて

半導体EUVペリクルは、極紫外線（EUV）リソグラフィにおいて非常に重要な役割を果たすデバイスです。EUVリソグラフィは、半導体製造のプロセスであり、回路の微細化を実現するために使用されます。ペリクルは、このプロセス中にシリコンウエハ上のフォトマスクを保護するための薄い膜のことを指します。具体的には、EUVペリクルは、フォトマスク表面に付着する微細な粒子やホコリ、または光学的な損傷からマスクを守る役割を担っています。

EUVペリクルにはいくつかの種類があります。まず、物理的特性によって分類すると、シリコンや窒化ケイ素などの材料を用いたペリクルがあります。これらは、EUV光を透過しやすく、かつ高い耐久性を持っています。また、通常のペリクルは、マスクを保護するために用いるが、ポリマー材料製のペリクルも存在し、透明性を持ちながらも軽量で、取り扱いが容易という特長があります。

また、EUVペリクルの用途としては、半導体製造のプロセス全般での使用が一般的です。特に、微細化が進む今の半導体プロセスにおいては、高度なスループット（処理速度）が求められますので、ペリクルの特性は、一層重要になっています。具体的には、ペリクルは、フォトマスクの表面のクリーンルーム環境を維持し、リソグラフィの際の印刷精度を向上させるために、非常に重要な役割を持っています。また、ペリクルを導入することにより、システム全体の生産性向上にも寄与します。

関連技術としては、EUVリソグラフィ自体の技術進化があります。EUVリソグラフィでは、波長が極めて短いため、光学系の設計や材料選定において新しい技術が必要とされます。これにより、ペリクルも最新の光学理論に基づいた新素材や新設計が求められます。また、ペリクルの製造技術や、ペリクルとフォトマスクとの適切な接続技術も、最近の大きな研究対象となっています。

さらに、EUVペリクルの市場は急速に拡大しています。半導体製造業界の需要の増加に伴い、ペリクルの需要も高まっています。特に、5GやAI、IoT関連の技術の進展により、ますます高度な半導体素子が求められており、EUVリソグラフィの持つ可能性は無限大です。

これらの技術が進化することで、EUVペリクルもさらなる性能向上が期待されています。具体的には、より微細なパターン形成が可能になり、粒子除去性能が向上することが期待されています。このような性能向上により、ペリクルの耐久性や効果的な保護能力が強化され、製造プロセス全般の効率性が向上することが見込まれます。

結論として、半導体EUVペリクルは、極紫外線リソグラフィ技術の重要な部分であり、半導体製造のクリーン環境を維持し、製品の信頼性を向上させるための鍵となるデバイスです。今後も市場のニーズに応じて、さらなる技術革新と性能向上が期待され、半導体製造の進化に寄与することが望まれています。エレクトロニクス業界における進展は、EUVペリクルの動向によっても大きく影響されるため、今後の研究開発に注目が集まります。

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・レポートの形態：英文PDF（Eメールによる納品）
・日本語タイトル：半導体EUVペリクルの世界市場2026年～2032年
・英語タイトル：Global Semiconductor EUV Pellicles Market 2026-2032

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