世界最高水準の発光出力750mWを達成！ 次世代高出力型UVC面光源パネルなどの新デバイスを 11月17日～19日に開催の 『光とレーザーの科学技術フェア2021』で出展
株式会社紫光技研(所在地：兵庫県淡路市、代表取締役社長：脇谷 雅行)は、独自技術であるLAFi(Luminous Array Film)構造のプラズマ方式水銀フリー深紫外線面光源製品UV-SHiPLA(UVシプラ)を開発・製造・販売しています。8×6cm次世代高出力型UVC面光源パネルと、開発中の新デバイスを11月17日～19日に東京都立産業貿易センター(浜松町)にて開催される『光とレーザーの科学技術フェア2021』の当社ブースで展示します。
8×6cm次世代高出力型UVC面光源パネル
波長域UVCで殺菌や物質分解に高い効果を発揮する260nmブロードバンド(220nm-320nm域)発光製品においては、より高い発光出力が求められていました。
今回、短波長側(220nm～260nm域)の光取り出し効率の改善と、ガラスチューブ素子にて形成する放電空間サイズを最適化することにより、発光効率を大幅に向上させることに成功しました。消費電力を増やすことなく発光出力を1.5倍に改善できます。また、従来にない短波長側のブロード発光を強化したことで、さらなる殺菌・分解能力向上が期待できます。
8×6cm標準サイズでは、これまでの300mW標準出力品と500mW高出力品に加えて、新たな新製品として750mW次世代高出力型を来年1月初めより販売開始します。
面サイズや発光波長の異なる特注品につきましても引き続き受注生産対応してまいります。
より高出力のデバイス開発も進めています。
＜UV-SHiPLA面光源製品の特長＞
面光源 ：小面積から大面積まで幅広い照射面に対応、
タイリングによる拡張が可能
フレキシブル：湾曲化や円筒加工が可能で、
対象物を囲む陰のない照射が可能。
発光波長 ：Xeプラズマ分子線の172nmで励起する
蛍光体発光により様々な波長が可能
不活化効果 ：UVCブロード発光により各種の菌・
ウイルスに対して効果的な不活化が可能
放熱性 ：面全体で熱を逃がすため放熱が容易で小型化、
低コスト化が可能
高速・安定性：電源投入後すぐにフルパワー安定発光。
点灯制御により省エネ運転が可能
広帯域発光 ：UVC、UVB、UVAの各波長帯をもれなくカバーする
広帯域の紫外光を提供
均一照射 ：拡散板不要、近距離でも均一な照射が可能、高い照射効率
カスタマイズ：発光面サイズ・形状、波長帯域を応用に合せて設計可能
＜想定する応用分野＞
小型軽量のハンディ除菌器(電池駆動)
流水殺菌、空気殺菌、表面殺菌の各殺菌装置への適用
工場排水中の有機物分、医療施設等からの排水に残留する薬品・化学物質を分解
＜出品展示会＞
展示会：光とレーザーの科学技術フェア2021
紫外線フェア
会期 ：2021年11月17日(水)～19日(金)
会場 ：東京都立産業貿易センター浜松町館 3,4F
(〒105-7501 東京都港区海岸1-7-1 東京ポートシティ竹芝内)
ブース：3階 小間番号＜3U-04＞
※今展示会は完全事前登録制となります。
→こちらより登録をお願いいたします。
水銀フリー紫外線面光源と、これを用いた流水殺菌光源モジュール
および殺菌装置を展示します。
当社展示会ページ http://www.optronics.co.jp/fair/2021/list/info.php?id=2364&ex=
会期中19日に当社セミナーも予定しています。詳細は下記をご参照ください。
https://shiko-tec.co.jp/20211013news/
当社執行役員の平川が登壇します。
プラズマUV光源の基本原理や応用についてお話しします。
【UV-1コース】ポストコロナ時代の紫外線技術(1)
日時： 2021年11月19日(金) 9:30-12:25
会場： 東京都立産業貿易センター浜松町館 4階 第2会議室A
URL ： https://www.optronics.co.jp/ex-seminar/projects/semi/63/804#seminar_id_1089
■水銀フリー深紫外線UV-LAFi光源のデバイス技術と応用 株式会社紫光技研 平川 仁
＜会社概要＞
【株式会社紫光技研】
代表者 ： 代表取締役社長 脇谷 雅行(わきたに まさゆき)
所在地 ： 〒656-2304 兵庫県淡路市浜1-27
会社URL： http://shiko-tec.co.jp/
