ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂市場、CAGR5.8%で成長し、2031年には760百万米ドル規模に

ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂は、半導体製造工程において光リソグラフィ技術の核心を担う感光性高分子材料である。これらはそれぞれ、ArFエキシマレーザー（波長193nm）およびKrFエキシマレーザー（波長248nm）を光源とする露光プロセスに使用され、ウェハ上に微細な回路パターンを形成する。特にArFレジストは、微細化の進展とともに高解像度・高感度・高エッチング耐性が求められ、化学増幅型樹脂やハイブリッドポリマーなど先端材料への転換が進んでいる。KrFレジストは依然として中堅ノードや液晶ディスプレイ、パワー半導体などに広く使用され、コスト効率と安定性の両立が評価されている。これらフォトレジストは単なる消耗品ではなく、半導体製造の歩留まりや性能を左右する「戦略的素材」であり、各国の技術主権・供給網安全保障の観点からも極めて重要な位置を占めている。

YHResearch調査チームの最新レポート「グローバルArFおよびKrFフォトレジスト樹脂のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」によると、2024年の480百万米ドルから2031年には760百万米ドルに成長し、2025年から2031年の間にCAGRは5.8%になると予測されている。これは、半導体微細化の進展、AI・5G・自動車用半導体の需要拡大により、高性能レジストへの需要が継続的に高まっているためである。ArFレジストは先端ノード向けでの比重が増大しており、EUV世代への橋渡し的役割を果たしている。一方、KrFレジストは中堅ロジック・メモリ・ディスプレイ・CMOSイメージセンサー向けで需要が堅調である。特にアジア市場では、新興ファウンドリやパワーデバイス関連メーカーによる設備投資が市場成長を後押ししている。市場の構造は成熟段階に入りつつも、用途拡大と技術高度化によって中長期的な成長余地を保ち続けている点が特徴である。

本市場は高い技術障壁を有する寡占的構造を呈している。YHResearchのトップ企業研究センターによると、ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂の世界的な主要製造業者には、Maruzen Petrochemical、Shin-Etsu Chemical、Toyo Gosei Co., Ltd、DuPont、Mitsubishi Chemical、Miwon Commercial Co., Ltd.、SAMYANG NC Chem Corp.、Nippon Soda、TOHO Chemical、Gun Ei Chemical Industry Co., Ltd.などが含まれている。2024年、世界のトップ10企業は売上の観点から約90.0%の市場シェアを持っていた。

住友化学、信越化学、東京応化工業、三菱ケミカルなど日本勢が依然として技術的優位を保ち、ArFおよびKrF領域の中核を形成している。一方、杜邦（DuPont）や東洋合成工業、DIC Corporation、日産化学、SANYANG NC Chemicalなども特定用途で存在感を強めている。さらに、Maruzen Petrochemicalを筆頭とする原料供給企業が、上流から安定供給体制を支える。韓国のMiwon Commercial、中国のGun Ei Chemical、Beijing Bayi Space LCD、Zhuhai Yantai Technologyなど新興勢力も台頭し、低コストかつ量産対応の強みを武器にグローバルサプライチェーンへ参入している。すなわち、本市場は「日本・韓国・中国・欧米」がそれぞれ異なる技術層と市場ニーズを軸に棲み分ける多層的な競争環境を形成している。この構造は一方で供給リスク分散に寄与し、他方で各国の素材産業戦略の方向性を映し出している。

今後のフォトレジスト市場の鍵を握るのは、EUV露光技術の商業化と、それに対応するArFレジストの高性能化である。EUVレジストへの完全移行は段階的であり、ArFドライ・ArF液浸レジストの改良が引き続き重要な役割を果たす。また、環境負荷低減・溶剤リサイクル・生産プロセスのクリーン化など、サステナビリティ対応も求められている。日本市場は高純度モノマー合成、ポリマー設計、評価技術において依然として世界的優位を維持しており、材料産業全体の競争力向上に寄与している。今後も、国内メーカーによる研究開発投資と、海外ファウンドリとの連携深化が鍵となる。ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂は、単なる素材を超え、半導体産業の中核インフラを支える知的資本として位置づけられつつある。その戦略的重要性は、今後さらに高まるであろう。

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