プレスリリース
EUV光源市場:種類、出力、用途、エンドユーザー、コンポーネント、展開段階別、世界予測、2026年~2032年

株式会社グローバルインフォメーション(所在地:神奈川県川崎市、代表者:樋口 荘祐、証券コード:東証スタンダード 4171)は、市場調査レポート「EUV光源市場:種類、出力、用途、エンドユーザー、コンポーネント、展開段階別、世界予測、2026年~2032年」(360iResearch LLP)の販売を3月13日より開始しました。グローバルインフォメーションは360iResearch (360iリサーチ)の日本における正規代理店です。
【当レポートの詳細目次】
https://www.gii.co.jp/report/ires1932101-euv-light-sources-market-by-type-power-output.html
EUV光源市場は2025年に19億1,000万米ドルと評価され、2026年には19億9,000万米ドルに成長し、CAGR5.54%で推移し、2032年までに27億9,000万米ドルに達すると予測されております。
主な市場の統計
基準年2025 19億1,000万米ドル
推定年2026 19億9,000万米ドル
予測年2032 27億9,000万米ドル
CAGR(%) 5.54%
EUV光源技術の要点、運用上の制約、および短期的な導入動向を定義するバリューチェーンの依存関係を明確に整理
極端紫外線(EUV)光源の分野は、ニッチな科学技術から、現代の半導体製造および先端研究における戦略的技術軸へと進化を遂げてまいりました。本導入では、13.5nm前後の波長でのリソグラフィを可能にする光源技術、光学系、システム統合の複雑な相互作用について概説します。光源の出力と安定性、デブリおよび汚染の制御、システム稼働時間とスループットを決定するコレクターおよびミラーシステムの精度要件といった中核的な技術的要因を明確にすることで、その背景を説明します。
技術評価、実務者インタビュー、サプライチェーン検証を組み合わせた厳密な混合手法アプローチにより、実行可能かつ検証可能な知見を導出
本エグゼクティブサマリーを支える分析は、技術評価、利害関係者インタビュー、サプライチェーンマッピングを組み合わせた混合手法研究アプローチに基づいています。1次調査では、設備エンジニア、保守責任者、調達マネージャー、研究開発責任者への構造化インタビューを実施し、現場の運用課題とベンダー選定基準を直接把握しました。2次調査では、公開技術文献、特許出願、学会論文集を統合し、光源アーキテクチャ、光学コーティング、デブリ管理手法に関連する技術動向を検証しました。
EUV導入成功の決定要因としての技術、サプライチェーン戦略、サービス準備態勢の相互作用を強調した簡潔な統合分析
EUV光源技術は、先端物理学、精密工学、複雑な商業エコシステムの交差点に位置しています。今後の道筋は、継続的な技術改良、アフターマーケットおよびサービスモデルの役割拡大、政策や物流上の圧力に応じたサプライチェーンの再構築によって特徴づけられます。光学系開発、光源最適化、サービス体制整備を統合するシステム的視点を持つ利害関係者は、技術投資を信頼性の高い生産能力へと転換する上で、より有利な立場に立つでしょう。
よくあるご質問
EUV光源市場の市場規模はどのように予測されていますか?
2025年に19億1,000万米ドル、2026年には19億9,000万米ドル、2032年までには27億9,000万米ドルに達すると予測されています。CAGRは5.54%です。
EUV光源技術の要点は何ですか?
13.5nm前後の波長でのリソグラフィを可能にする光源技術、光学系、システム統合の複雑な相互作用について概説します。
EUV光源市場における革新技術の収束はどのように競合力を再定義していますか?
レーザー生成プラズマ方式は信頼性と出力スケーラビリティを実証し、放電生成プラズマプラットフォームは異なるトレードオフを提供しています。
2025年の関税措置はEUVバリューチェーンにどのような影響を与えましたか?
関税によるコスト上昇は、輸入部品および完成システムの総着陸コストを増加させ、メーカーはサプライヤーポートフォリオの再評価を迫られています。
EUVエコシステムにおける詳細なセグメンテーション分析はどのように行われていますか?
タイプ別分析では、レーザー生成プラズマ方式が主流を占め、放電生成プラズマソリューションが特定スペクトル特性を優先する用途で重要性を保持しています。
地域ごとの強みはEUV導入にどのように影響していますか?
アメリカ大陸は設計、システム統合、研究主導のイノベーションにおいて強みを発揮し、欧州・中東・アフリカ地域は精密光学とエンジニアリングサービスにおいて独自の地位を確立しています。
EUVエコシステムにおける競争優位性を形成する要因は何ですか?
研究開発投資、サプライチェーンパートナーシップ、アフターマーケット能力を戦略的に連携させることが重要です。
EUV導入を加速するための優先順位付けされたアクションは何ですか?
サプライヤーおよびサービス関係を多様化し、光学系の耐障害性と汚染管理への投資を加速することが推奨されます。
EUV導入成功の決定要因は何ですか?
技術、サプライチェーン戦略、サービス準備態勢の相互作用が重要です。
EUV光源市場に参入している主要企業はどこですか?
ASML Holding N.V.、Canon Inc.、Carl Zeiss AG、Coherent, Inc.、Cymer LLC、Fujitsu Limited、Gigaphoton Inc.、Hamamatsu Photonics K.K.、Hitachi, Ltd.、IPG Photonics Corporation、Jenoptik AG、LG Electronics Inc.、Micron Technology, Inc.、Mitsubishi Electric Corporation、NEC Corporation、Newport Corporation、Nikon Corporation、Panasonic Holdings Corporation、Samsung Electronics Co., Ltd.、Sharp Corporation、SK hynix Inc.、Thorlabs, Inc.、Toshiba Corporation、TRUMPF GmbH+Co. KGです。
目次
第1章 序文
第2章 調査手法
第3章 エグゼクティブサマリー
第4章 市場概要
第5章 市場洞察
第6章 米国の関税の累積的な影響, 2025
第7章 AIの累積的影響, 2025
第8章 EUV光源市場:タイプ別
第9章 EUV光源市場:出力別
第10章 EUV光源市場:用途別
第11章 EUV光源市場:エンドユーザー別
第12章 EUV光源市場:コンポーネント別
第13章 EUV光源市場導入段階別
第14章 EUV光源市場:地域別
第15章 EUV光源市場:グループ別
第16章 EUV光源市場:国別
第17章 米国EUV光源市場
第18章 中国EUV光源市場
第19章 競合情勢
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