低温・コンタミフリーでナノレベルの微粒化を実現する解砕装置 『G-smasher LM-1000』を「nano tech 2010」に出展

リックス株式会社(所在地：福岡県福岡市、代表取締役社長：安井 龍之助)では、この度、2010年2月17日から始まる展示会「nano tech 2010」で新製品のナノ粒子解砕装置『G-smasher LM-1000』を実機展示いたします。

●『G-smasher LM-1000』とは
『G-smasher LM-1000』は、リックスが開発した、従来に無かった湿式解砕手法として超音速二流体ジェットノズル(ラバルノズル)を利用し、スラリー(※)を液滴にして衝突板に衝突させる方法(液滴衝突法)を用いたナノ粒子解砕装置『G-smasher』の少量生産用装置です。2010年5月に販売開始を予定しております。


●nano tech 2010　概要
会期　　： 2010年2月17日(水)～2月19日(金)の3日間
会場　　： 東京ビッグサイト(東京国際展示場)東4・5・6ホール＆会議棟
小間位置： 東5ホール C-31
出展品　： 液滴衝突法を用いたnano微粒化装置『G-smasher LM-1000』
URL　　 ： http://www.nanotechexpo.jp/


●液滴衝突法の特長
液滴衝突法による解砕装置『G-smasher』は、超音速エアジェットの発生にラバルノズルを用い、ノズル内にスラリーを供給します。ラバルノズル内に供給されたスラリーは圧縮空気の断熱膨張により液滴化されると同時に加速され、衝突板へ高速で衝突します。従来ラバルノズルを利用したジェットミルは、100～200m/sにとどまっていました。しかし本方式では、ノズル内のスラリー供給部での衝撃波の発生を抑え、スラリーを安定に供給する方法を検討した結果、ノズル内においてスラリーを液滴化し、超音速(360m/s)まで加速することができました。
また、本方法ではエアジェットにスラリーを供給し、メディアレスで粉砕を行うため、各シール部材やメディアの磨耗によるコンタミネーション(※)を抑制できます。さらに、ノズル内部に供給された液滴は空気の断熱膨張により加速されると同時に冷却されるため、粉砕に伴う発熱を抑えることができ、冷却ユニットを必要としません。


●『G-smasher』の特長
微粒化の対象とする材料は低粘度スラリーで、無機材料(電子材料・セラミックなど)の解砕、有機材料(顔料・医薬原料など)の解砕・粉砕、金属粒子の解砕、その他に乳化・分散も処理可能です。材料の平均的な処理量は約80ml/min。処理量は任意に設定可能。
研究用途を考慮し、外形寸法「560(縦)×560(横)×850(高)mm」としテーブル上に設置できるようにしました。また、複数の材料を微粒化加工する場合に手間となる加工処理部の洗浄ニーズを考慮し、加工処理部の分解・組み立てをクイックリリースレバーで簡単に出来る構造としました。

＜販売目標＞
2010年度中の販売台数は50台を見込んでいます。研究用途を考慮し、テーブル上に設置できる大きさにしました。販売価格は標準機で約500万円(税別、オプション仕様含まず)を予定しています。


※用語説明
コンタミフリー：汚染物質の発生無し
スラリー　　　：懸濁液(けんだくえき)
コンタミネーション：汚染物質・夾雑物(きょうざつぶつ)


【会社概要】
商号　： リックス株式会社
創業　： 明治40年10月
設立　： 昭和39年5月
資本金： 8億2千7百90万円
代表　： 代表取締役社長　安井 龍之助
所在地： 〒812-8672　福岡県福岡市博多区山王1-15-15
URL　 ： http://www.rix.co.jp/